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X射线光电子能谱(XPS)又被称做化学分析用电子能谱(ESCA),是通过检测由单色X射线照射样品产生的光电子的动能和强度,来确定样品表面的元素组成、含量及化学态的表面分析技术。XPS常用于样品表面纳米尺度的元素成分分析,多层薄膜的深度分布分析,界面分析及元素化学态表征等。在表面改性、催化剂、腐蚀、黏附、半导体和介电材料、电子包装材料、薄膜涂层等领域具有广泛的应用。 X射线光电子能谱基本原理: 入射X射线照射在样品表面会产生光电效应,激发出的光电子具备与X射线相同的能量,能克服原子核的束缚从样品表面发射出来。通过检测光电子的动能,可以得到光电子的束缚能(Bonding Energy)——XPS元素定性及化学态分析的依据。 束缚能=X射线能量-光电子动能 |
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XPS测试仪器介绍
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仪器能力
获得的信息:元素(Li~U),化学态 采集深度:5-75Å 空间分辨率:7.5 µm 成分检出限:0.1at% 深度剖析功能:具备Depth Profile 定量能力:一般用于半定量 |
XPS测试应用范围
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1、表面污染、变色之成分分析
2、表面化学组态分析
3、样品氧化层厚度及氧化态分析
4、多层薄膜纵深分析
5、图谱分析
6、线扫描
XPS测试应用实例
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点分析:对指定位置进行采谱分析
深度分布分析:借助刻蚀功能,分析不同深度的成分
面分布分析:分析不同成分在样品表面的分布情况
XPS测试样品要求
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1、放射形、具有磁性的样品、在X光照射下会分解的样品,不能测试
2、样品用量:粉末样品原则上越细越好,5mg左右即可,块状样品,需加工成片状,上下两面互为平行面
3、样品需提前干燥,保护测试面,避免测试面被污染
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